新的印刷技術出現 摩爾定律依然活著
2008-10-15 00:00 來源：計世網 責編：覃麗妮
光刻技術的發展是摩爾定律繼續成立的原動力。更短的波長，更好的晶狀體，直接促進了45納米商用芯片的發布，而且32mn制程也在測試中，你或許會對此感到驚訝，但是毫無疑問，它不會停留在此水平，而是會繼續向前發展。昨天科學家發布了新的無掩膜平板印刷技術，這可能是制造小于32nm制程芯片的關鍵。
傳統的光刻技術采用負極掩模成像蝕刻在芯片上，但是這種技術成本高，而且研發時間長，對精度要求很高。你可想像這是需要很高的研發成本的，也可能是拖慢電路發展的一個因素。
新的無掩膜平版印刷技術可以繞過以上的難題，他采用光束和電子的作用產生的等離子體激元來完成的。光促使電子擺動，然后形成很多大的電場和光場，并在晶體上面產生一系列金屬環，進而形成可以聚焦的光點進行蝕刻。
理論上使用該技術可以制造出5-10nm的芯片，但是實際上只能形成20納米的等離子光束，看來還是有很長的一段路要走。
傳統的光刻技術采用負極掩模成像蝕刻在芯片上，但是這種技術成本高，而且研發時間長，對精度要求很高。你可想像這是需要很高的研發成本的，也可能是拖慢電路發展的一個因素。
新的無掩膜平版印刷技術可以繞過以上的難題，他采用光束和電子的作用產生的等離子體激元來完成的。光促使電子擺動，然后形成很多大的電場和光場，并在晶體上面產生一系列金屬環，進而形成可以聚焦的光點進行蝕刻。
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