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噴墨打印新趨勢及無水印刷全接觸會議將在全印展召開
2011-11-05 09:25 來源:CPP114 責(zé)編:王岑
- 摘要:
- 噴墨打印新趨勢研討會將于2011年11月14日,下午1時在上海新國際博覽中心E2-M18舉行,會議主要介紹噴墨打印的發(fā)展史、趨勢、市場狀況、不同設(shè)備的特性及最新技術(shù)研究。
【CPP114】訊:“中國國際全印展(All in Print China) - 中國國際印刷技術(shù)及設(shè)備器材展,將于2011年11月14-17日在上海新國際博覽中心舉行,展出面積將近8萬平米。此次全印展將以“信息時代的印刷活力”為口號,凸顯在信息傳播全面提速的大環(huán)境下,創(chuàng)新、升級、融合和發(fā)展在印刷行業(yè)的重要性,并全面展示近年來印刷技術(shù)的推進(jìn)成果與發(fā)展趨勢,生動展現(xiàn)印刷技術(shù)所煥發(fā)的活力和動力。第四屆中國國際全印展將提供全球化的技術(shù)交流平臺,集聚海內(nèi)外最具購買力的專業(yè)觀眾,共同開拓全球印刷業(yè)的發(fā)展新道路。
香港印藝協(xié)會除積極參加全印展以外,特別舉辦了兩場研討會于全印展期間舉辦,歡迎各界人士蒞臨交流。
噴墨打印新趨勢研討會將于2011年11月14日,下午1時在上海新國際博覽中心E2-M18舉行,會議主要介紹噴墨打印的發(fā)展史、趨勢、市場狀況、不同設(shè)備的特性及最新技術(shù)研究。
無水印刷全接觸研討會將于2011年11月15日下午1時在上海新國際博覽中心E2-M18舉行,會議主要介紹無水印刷原理、設(shè)備配套、優(yōu)點、注意事項及分享使用心得。
香港印藝協(xié)會除積極參加全印展以外,特別舉辦了兩場研討會于全印展期間舉辦,歡迎各界人士蒞臨交流。
噴墨打印新趨勢研討會將于2011年11月14日,下午1時在上海新國際博覽中心E2-M18舉行,會議主要介紹噴墨打印的發(fā)展史、趨勢、市場狀況、不同設(shè)備的特性及最新技術(shù)研究。
無水印刷全接觸研討會將于2011年11月15日下午1時在上海新國際博覽中心E2-M18舉行,會議主要介紹無水印刷原理、設(shè)備配套、優(yōu)點、注意事項及分享使用心得。
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