紫外線平版印刷術助AMD&IBM取得新突破
2008-02-29 00:00 來源：新浪 責編：尤思佳
AMD于2月27日宣布，在合作伙伴IBM的幫助下，他們已經取得了45nm制造工藝的關鍵性突破，為進軍16nm技術乃至更小尺寸工藝奠定了堅實基礎。
AMD和IBM成功使用全場(Full-Field)極端遠紫外線(EUV)平版印刷術制造了一顆45nm工藝試驗性芯片，尺寸22×33毫米。此前使用EUV技術生產的芯片部件都是“窄場”(Narrow-Field)的，只設計整個芯片的一部分，而AMD和IBM將其延伸到了芯片上的全部區域，整個第一層金屬互聯層都使用了這種技術。
AMD是在德國德累斯頓Fab 36晶圓廠使用193nm沉浸平版印刷術制造這顆芯片的，隨后將其運往IBM在紐約首府奧爾巴尼納米科學與工程學院的研究工廠，使用荷蘭光刻設備供應商ASML Holding NV的一臺13.5nm EUV平版印刷掃描儀蝕刻了芯片晶體管之間的第一層金屬互聯層，最終完成了這顆芯片。
AMD稱，試驗芯片內部晶體管的“特性與只使用193nm沉浸平版印刷術制造的芯片完全一致”。
最近二十年來，業界一直認為EUV平版印刷術是最有希望的下一代微芯片生產工藝。早在1997年，Intel、AMD、摩托羅拉就聯合成立了一家名為“EUV Limited Liability Corporation”的公司，試圖在100nm工藝水平上取代深紫外線(DUV)，但后者近來不斷進步，已經可以在45nm工藝上大規模量產了，并普遍被認為能延續到22nm。
當然，DUV技術早晚都會走到盡頭，向EUV的轉換可能會出現在16nm工藝上，時間大概是2013年左右
AMD稱，要想將EUV平版印刷術投入實際生產，必須將這種技術擴展到整個微處理器的所有關鍵層上，而不僅限于金屬互聯層。AMD認為，EUV平版印刷術必須在2016年之前獲得投產認證，因為屆時將到達22nm工藝極限。
【我要印】印刷廠與需方印務對接，海量印刷訂單供您任意選擇。
【cpp114】印刷機械、零配件供求信息對接，讓客戶方便找到您。- 【我的耗材】采購低于市場價5%-20%的印刷耗材，為您節省成本。
- 【印東印西】全國領先的印刷品網上采購商城,讓印刷不花錢。
- 關于我們|聯系方式|誠聘英才|幫助中心|意見反饋|版權聲明|媒體秀|渠道代理
- 滬ICP備18018458號-3法律支持:上海市富蘭德林律師事務所
- Copyright © 2019上海印搜文化傳媒股份有限公司 電話：18816622098
主站蜘蛛池模板：
铁力市|
新丰县|
寿宁县|
达拉特旗|
金乡县|
曲阜市|
长白|
洪江市|
策勒县|
吴桥县|
南宫市|
兰坪|
威宁|
犍为县|
阜康市|
那坡县|
铜梁县|
大关县|
邵东县|
白山市|
石林|
婺源县|
揭东县|
井陉县|
徐州市|
林州市|
北川|
维西|
凤山县|
安庆市|
黄冈市|
岚皋县|
韩城市|
曲松县|
芷江|
长兴县|
西乡县|
社会|
柞水县|
成安县|
宜州市|